1、吸收設備吸收法選用低蒸發或不蒸發性溶劑對VOCs進行吸收,再使用VOCs和吸收劑物理性質的區別進行別離。含VOCs的氣體自吸收塔底部進入塔內,在上升進程中與來自塔頂的吸收劑逆流接觸,凈化后的氣體由塔頂排出。
廢氣處理設備的種類介紹吸收了VOCs的吸收劑通過熱交換器后,進入汽提塔頂部,在溫度高于吸收溫度或壓力低于吸收壓力的條件下解吸。解吸后的吸收劑通過溶劑冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體通過冷凝器、氣液別離器后以較純的VOCs氣體脫離汽提塔,被收回使用。該技術適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化,別的情況下需求作相應的技術調整。
2、吸附設備在用多孔性固體物質處理流體混合物時,流體中的某一組分或某些組分可被吸外表并濃集其上,此景象稱為吸附。吸附處理廢氣時,吸附的對象是氣態污染物,氣固吸附。被吸附的氣體組分稱為吸附質,多孔固體物質稱為吸附劑。固體外表吸附了吸附質后,一部被吸附的吸附質可從吸附劑外表脫離,此現附。而當吸附進行一段時間后,因為外表吸附質的濃集,使其吸附才能顯著降低而吸附凈化的請求,此刻需求選用必定的辦法使吸附劑上已吸附的吸附質脫附,以協的吸附才能,這個進程稱為吸附劑的再生。因此在實際吸附工程中,恰是使用吸附再三生再三吸附的循環進程,到達
廢氣處理設備中污染物質并收回廢氣中有用組分。
3、有機廢氣的焚燒及催化凈化設備焚燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效,其原理是用過量的空氣使這些雜質焚燒,大多數生成二氧化碳和水蒸氣,能夠排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時,焚燒生成產物中HCl或SO2,需求對焚燒后氣體進一步處理。
4、工業有機廢氣的低溫等離子體的管理設備等離子體即是處于電離狀況的氣體,其英文名稱是plasma,它是由美國科學muir,于1927年在研討低氣壓下汞蒸氣中放電景象時命名的。等離子體由大量的子、中性原子、激發態原子、光子和自由基等構成,但電子和正離子的電荷數必須體表現出電中性,這即是“等離子體”的意義。
廢氣處理設備等離子體具有導電和受電磁影響的許多方面與固體、液體和氣體不同,因此又有人把它稱為物質的第四種狀況。依據狀況、溫度和離子密度,等離子體一般能夠分為高溫等離子體和低溫等離子體(包子體和冷等離子體)。
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